POST ARCHIVE FACTION (PAF) 2018AW 'RIGHT' TECHNICAL PONCHO

POST ARCHIVE FACTION (PAF) 2018AW 'RIGHT' TECHNICAL PONCHO
ポストアーカイブファクション (パフ) 2018秋冬 テクニカルポンチョ

[サイズ] (Size)

[着丈] (body length) 108cm

[身幅] (body width) 56cm

[肩幅] (shoulder) -

[袖丈] (sleeve length) 50cm

[状態] (Condition) 8/10

[アイテム番号]　(Item Number) AW18R-RPC01B

[商品詳細] (Product Details)

このアイテムは、POST ARCHIVE FACTION（PAF）がブランド設立初期である2018年秋冬シーズンに発表した、ブランド哲学の根幹を示す「RIGHT」ラインの傑作です。
PAFのコレクションは、その政治的な連続性を象徴するように「LEFT（実験的）」「CENTER（中立的）」「RIGHT（機能的・保守的）」に分けられます。この「Right Poncho」は、最も実用性と機能性を追求したラインに位置づけられ、日常の環境変化に対する「最適な形態（FORM）」を提示しています。
デザイナー、ドンジュン・リムが掲げるアバンギャルドな思想は、ポンチョという伝統的な形状にテクニカルな要素を融合させることで具現化されました。まるで現代の都市生活者に向けて設計された「移動するシェルター」のようです。
使用されているマテリアルは、タフな気候にも対応する高密度なテクニカルファブリック。その生地は、触れた瞬間に感じるハリと、身体の動きに合わせて柔軟に流れるドレープ性を両立させています。雨風をものともしない無機質なブラックの質感は、都市の景観に溶け込みながらも、袖を通した者に確かなプロテクションと静謐なオーラを与えます。
独特なパターンは、ポンチョ特有のゆとりを持たせつつも、着用時に美しい立体的なフォルムを形成するように緻密に計算されています。この圧倒的なドレープと未来的な機能美こそが、PAFの真骨頂であり、単なる衣類を超えた「着る建築」としてあなたのアーカイブに強烈な存在感を放つでしょう。

This piece is a masterpiece from the "RIGHT" line, presented in the 2018 Autumn/Winter season, marking the foundational philosophy of POST ARCHIVE FACTION (PAF) during its early stage.
PAF collections are philosophically segmented into "LEFT" (experimental), "CENTER" (neutral), and "RIGHT" (functional/conservative). This "Right Poncho" belongs to the most utilitarian line, proposing the "Optimal Form" for navigating dynamic, modern urban environments.
The avant-garde concept envisioned by designer Dongjoon Lim is materialized by integrating highly technical elements into the classic poncho silhouette. It functions essentially as a "mobile shelter" designed for the contemporary city dweller.
The garment utilizes a high-density technical fabric built to withstand tough weather. The material offers a satisfying tautness upon touch while simultaneously achieving a flexible drape that flows with movement. The inanimate black texture, impervious to rain and wind, allows the wearer to blend into the city's backdrop yet projects an aura of silent protection and assured presence.
The unique pattern is meticulously calculated to maintain the poncho's signature voluminous fit while creating a stunning, three-dimensional structure when worn. This masterful balance of dramatic drape and futuristic functional aesthetics is the essence of PAF—a piece that transcends mere clothing to become "wearable architecture," ensuring a powerful presence in your personal archive.

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